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本实用新型涉及一种两级溢流式非晶带成型设备，解决了现有技术中使用一个坩埚，坩埚内内聚集的氧化物在弧光的推动下容易堆积在坩埚的溢流口，影响产品质量的缺陷，包括真空室及熔化装置，真空室内设置有冷却转轮，熔化装置包括坩埚及加热装置，冷却转轮上方设...
该专利属于浙江朝日科磁业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江朝日科磁业有限公司授权不得商用。

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