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一种制造用于生产定制的光学表面的模型的方法，由此修改具有基本形状的模型（１，２）以获得所需模型的形状。通过光刻方法执行该修改，该光刻方法包括给模型表面涂上光致抗蚀剂层（１６）、将该层曝光于曝光辐射（９）的预定图案和显影该曝光层，由此移除该层...
该专利属于皇家飞利浦电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过皇家飞利浦电子股份有限公司授权不得商用。

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