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本发明公开了一种多层膜填充型复合介质纳米周期光栅结构及其制备方法。该结构由介质光栅和与介质光栅相复合的一维周期性多层膜结构组成，介质光栅的占空比为1:1，其周期为100纳米～1微米；介质光栅的凹部空隙处沉积有与光栅折射率不同但高度相同的介质...
该专利属于无锡英普林纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡英普林纳米科技有限公司授权不得商用。

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