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本发明的洗涤方法，包括：涡流清洗设定步骤，设定涡流清洗，该涡流清洗是指，当通过使滚筒旋转来使洗涤物附着于所述滚筒旋转时，涡流喷嘴向所述滚筒内喷水的清洗；向外桶内供水的连续供水步骤；一般清洗步骤，在所述外桶内的水位到达目标水位所用的时间多于目...
该专利属于LG电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG电子株式会社授权不得商用。

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