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本实用新型公开了一种基于湿法生产合成革用抹平整理装置，该合成革用抹平整理装置包括一抹杆，所述抹杆位于导辊的上部，所述抹杆直径小于导辊的直径，所述抹杆的长度与贝斯的宽度相同，所述抹杆在导辊的配合下，对通过导辊的贝斯表面进行抹平，既能将附在贝斯...
该专利属于山东泽辉高科涂层有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东泽辉高科涂层有限公司授权不得商用。

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