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当在闪烁体晶体阵列中采用镜面反射材料时，通过粗糙化多个预制抛光闪烁体晶体中每个的至少一侧（16），缓和所述晶体中因重复内反射造成的光捕获。镜面反射材料（30）被施加（沉积、包裹等）到布置在阵列中的经粗糙化的晶体。每个晶体阵列均被耦合到硅光探...
该专利属于皇家飞利浦有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过皇家飞利浦有限公司授权不得商用。

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