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本发明涉及用于化学气相沉积的双室反应器。更特别地，本发明涉及一种用于进行膜沉积的装置，包括一个或多个工艺管，热源，一个或多个反应物气体歧管，和一个或多个排气歧管。一个或多个工艺管限定了第一反应空间和第二反应空间。第二反应空间不与第一反应空间...
该专利属于李雪松所有，仅供学习研究参考，未经过李雪松授权不得商用。

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