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本发明公开了一种喜树愈伤组织培养和增殖的光调控方法，筛选出建立喜树无性系的最优培养基配方。结果表明：茎段的诱导培养基以MS+0.1mg／L?KT+4mg/L2，4-D为佳；增殖培养以B5+0.5mg／L?KT+1.0mg／LNAA+0.5m...
该专利属于浙江农林大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江农林大学授权不得商用。

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