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具超短驻留时间之雷射退火系统及方法技术方案
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文档序号:9535456
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一种以超短驻留时间对一半导体晶圆执行退火之雷射退火系统及方法。雷射退火系统可包括一或二激光束,其至少部分重迭。其中一激光束系为一预热激光束且其他激光束系为退火激光束。退火激光束以足够快的速度扫描以使驻留时间介于大约1微秒至100微秒之间。所...
该专利属于超科技公司所有,仅供学习研究参考,未经过超科技公司授权不得商用。
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