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无罩幕图案化植入的装置及方法制造方法及图纸
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文档序号:9521587
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一种于离子植入系统(400)中植入工件(100)的方法。此方法可包括提供邻近含有等离子(140)的等离子腔室(402)的萃取平板(101),使萃取平板透过至少一个孔洞(407)由所述等离子中萃取离子(102),所述孔洞提供具有分布于入射至工...
该专利属于瓦里安半导体设备公司所有,仅供学习研究参考,未经过瓦里安半导体设备公司授权不得商用。
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