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本发明实施例公开了一种涉及显示技术领域，尤其涉及光刻胶的去除方法、曝光装置以及显示基板的制造方法，以解决现有技术中，对光刻胶进行剥离处理时，需要配置剥离设备，对光刻胶进行灰化处理时，需要配置高功率设备以及化学气体，增加了设备投入，提高了生产...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。