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本发明揭示了一种喷淋头，所述喷淋头用于向气相沉积的反应腔中气体反应区域输出反应气体，所述喷淋头至少包括第一源气体腔、冷却腔和离子化腔，所述第一源气体腔用于向所述气体反应区域输出第一源气体，所述离子化腔用于向所述气体反应区域输出离子化的第二源...
该专利属于光垒光电科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光垒光电科技（上海）有限公司授权不得商用。

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