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在本发明中，通过限制在以下温度范围内对高分子膜实施特殊的热处理，能够抑制在其后的石墨化处理时产生发泡，且即使提高石墨化升温速度也可以获得优质的石墨膜，其中，所述温度范围是指，高分子膜分解初期的从热分解起始温度以上的温度即升温下限值起、至高分...
该专利属于株式会社钟化所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社钟化授权不得商用。

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