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本实用新型公开一种调整装置，包括第一调整件和第二调整件，所述第一调整件包括与承载件上用于承载被清洗件的承载表面接触的基体和设置于所述基体上并与第一固定件接触的凸块；第二调整件包括本体、设置于所述本体上的第一基准块和设置于所述本体上并与所述第...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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