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受激发射损耗显微成像方法及装置制造方法及图纸
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文档序号:9274942
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本发明提出了一种基于高级次轴对称偏振涡旋光束的超分辨受激发射损耗显微成像方法及装置,利用该方法可获得物体的三维超分辨显微成像。将第一形式的高级次轴对称偏振涡旋光束聚焦获得实心光斑,将第二形式的高级次轴对称偏振涡旋光束聚焦获得空心光斑。所述聚...
该专利属于北京信息科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京信息科技大学授权不得商用。
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