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本实用新型公开了一种精密对位平台，包括：一底座，包括一构件装设面；一活动平台，设于构件装设面上方一间隔高度位置处；至少两组导动装置，呈不同作动轴向分布型态组设连接于构件装设面与活动平台的底面之间，导动装置驱使控制活动平台产生平移调整运动；一...
该专利属于高明铁企业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过高明铁企业股份有限公司授权不得商用。

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