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本发明涉及一种等离子体处理装置，其包括：处理室，在其中容纳有多个基板并且在其中执行等离子体处理过程；支撑件，其安装在处理室中，以至于将多个基板放置在与支撑件相同的平面上；喷射件，其与支撑件相对布置，并且其具有多个独立的挡板，用于从与放置在支...该专利属于国际电气高丽株式会社;株式会社日立国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过国际电气高丽株式会社;株式会社日立国际电气授权不得商用。