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本发明涉及在行进的基体上进行金属镀层的连续真空淀积设施，所述设施包括：真空淀积壳件（24）；至少一音速蒸汽喷射涂镀头（25，26），涂镀头通过配有分配阀（19）的蒸汽供给管道（20）与蒸发坩埚（9）相连接，蒸发坩埚用于容置液体（11）形式的...该专利属于安赛乐米塔尔研究与发展有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过安赛乐米塔尔研究与发展有限责任公司授权不得商用。
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本发明涉及在行进的基体上进行金属镀层的连续真空淀积设施，所述设施包括：真空淀积壳件（24）；至少一音速蒸汽喷射涂镀头（25，26），涂镀头通过配有分配阀（19）的蒸汽供给管道（20）与蒸发坩埚（9）相连接，蒸发坩埚用于容置液体（11）形式的...