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本发明提供能够高效且稳定地提供高纯度镧的制造方法、高纯度镧、包含高纯度材料镧的溅射靶和以高纯度材料镧为主要成分的金属栅用薄膜的技术。该高纯度镧的制造方法的特征在于，以除气体成分以外的纯度为2N～5N的粗镧氧化物原料为起始材料，在450～70...
该专利属于吉坤日矿日石金属株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过吉坤日矿日石金属株式会社授权不得商用。

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