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本发明的单片式清洗设备及其清洗方法，包括：旋转夹盘，用于固定半导体衬底，并带动半导体衬底进行旋转；位于半导体衬底上的喷嘴，用于将清洗液注入到旋转的半导体衬底上；位于半导体衬底上的含有负压装置的制具，用于将清洗液从旋转的半导体衬底上吸走；时间...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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