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一种靶台，用于在衬底上通过磁控溅射法形成薄膜，包括靶材、金属支板、阳极板、阴极板及挡片；所述靶材固定于与所述衬底相对的位置；所述支板围绕于所述靶材周围并与所述靶材相对于所述衬底的面相垂直，同时与靶材的侧面形成间隙；所述阳极板垂直固定于所述支...
该专利属于深圳先进技术研究院;香港中文大学所有，仅供学习研究参考，未经过深圳先进技术研究院;香港中文大学授权不得商用。

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