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本发明公开了一种平面内嵌电极的制备方法，适用于电极制备领域，其特征在于通过以下步骤完成：衬底的清洗；衬底的修饰；在修饰过的衬底上光刻电极图案；蒸镀金属电极；金属电极的表面修饰；光刻胶的剥离；旋涂PDMS和PDMS的固化；电极从衬底上转移等步...
该专利属于东北师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过东北师范大学授权不得商用。

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