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本发明提出一种低辐射Low-E玻璃的制造方法，包括：提供玻璃基底；在所述玻璃基底上形成至少第一电介质层；通过磁控溅射法在所述第一电介质层上沉积所述红外反射种子层，在所述红外反射种子层上通过离子束辅助沉积法沉积红外反射附加层；在所述玻璃基底之...
该专利属于林嘉佑所有，仅供学习研究参考，未经过林嘉佑授权不得商用。

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