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本发明提供机械加工性优异、且可以形成主要含有Cu、Ga的化合物膜的溅射靶及其制造方法。本发明的溅射靶具有以下的成分组成：相对于溅射靶中的全部金属元素，含有Ga：15原子%～40原子%，而且含有Bi：0.1原子%～5原子%，余量的Cu及不可避...该专利属于三菱综合材料株式会社;昭和砚壳石油株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱综合材料株式会社;昭和砚壳石油株式会社授权不得商用。