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本发明提供一种真空成膜装置，其不会损害能在基板的成膜面整面有效吸附原料气体的功能，并且能够防止装置自身设置面积大型化，其具有在真空室1内保持基板的台架（2），向该基板（W）交替供给气体的气体供给装置（3），以及排出真空室内的气体的排气装置（...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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