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本发明公开了一种Si基中/长波叠层双色碲镉汞材料及其制备方法。该方法包括：进行外延级Si衬底清洗，去掉Si衬底的自然氧化层，形成人为氧化层；对Si衬底进行氧化层去除，并进行As钝化；采用迁移增强MME的方式生长ZnTe缓冲层，并随后进行Cd...
该专利属于中国电子科技集团公司第十一研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第十一研究所授权不得商用。

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