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本实用新型提供一种曝光机，包括：掩模板和遮挡组件；所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜；所述遮挡组件包括遮光条；所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。本实用新型的曝光机可解决遮挡组...该专利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。