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本发明公开了一种双自准直光学系统检调管,涉及以采用光学方法为特征的测量装置技术领域。包括壳体,所述壳体内设有两条自准直光学系统,第一个自准直光学系统和第二个自准直光学系统分别经光学器件将光源发射的光照射到被测反光镜上,第一个自准直光学系统和...该专利属于中国人民解放军63908部队所有,仅供学习研究参考,未经过中国人民解放军63908部队授权不得商用。
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本发明公开了一种双自准直光学系统检调管,涉及以采用光学方法为特征的测量装置技术领域。包括壳体,所述壳体内设有两条自准直光学系统,第一个自准直光学系统和第二个自准直光学系统分别经光学器件将光源发射的光照射到被测反光镜上,第一个自准直光学系统和...