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一种等离子体沉积及刻蚀系统技术方案
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下载一种等离子体沉积及刻蚀系统的技术资料
文档序号:8956613
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一种等离子体沉积及刻蚀系统,包括:腔体、设置在腔体内的阴极载物台,上栅极,加热装置,其中,还包括用于冷却上栅极的冷却装置;用于为上栅极、加热装置以及加热装置、阴极之间提供偏压的偏压电源。其通过采用多根平行、均匀分布的灯丝作为加热装置,提升了...
该专利属于中国科学院物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。
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