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本发明公开了一种采用共溅射法制备非晶-纳米晶复合膜的方法，其是在基体上通过双靶磁控溅射同时沉积非晶相和纳米晶相制备成非晶相和晶体相共存的混合物薄膜。本发明制备的非晶共溅射膜具有更高蠕变应变速率敏感值，力学性能更为优异，塑性变形更加均匀。该方...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

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