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本发明公开了一种采用合金旋转靶材制备铜锌锡硫硒薄膜的方法，该方法包括如下步骤：（1）将沉积有钼层的基底加热至300～400℃，采用溅射法，调节溅射功率至30～200W，溅射得到第一层薄膜，所述第一层薄膜表面呈贫铜富锌状态；（2）调节基底的温...
该专利属于无锡舒玛天科新能源技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡舒玛天科新能源技术有限公司授权不得商用。

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