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本实用新型属于薄膜制备领域，具体地说是一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置。该装置由包括两组四个矩形非平衡态磁控靶材、一个离子源和一个工件转架在内的真空腔体组成。两组非平衡态靶并排放置，每组中两个靶材呈面对面放置，可独立工作或同时工作；靶与靶...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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