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本发明的一般领域为光刻系统领域，该光刻系统用于应用激光剥离技术在包括一个或多个平面光敏层的平面衬底（1）上生产电子部件。根据本发明的系统是激光直写系统。其包括光学或机械装置，所述光学或机械装置配置为使光束（F）的有用部分在光敏层的平面上倾斜...
该专利属于原子能和能源替代品委员会所有，仅供学习研究参考，未经过原子能和能源替代品委员会授权不得商用。

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