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一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统，掩模台贴附有长条镜，干涉仪光束通过长条镜反射，控制掩模台运动，该方法包括上载具有测试标记的掩...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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