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本实用新型属于光学加工技术领域，涉及对研磨抛光工具的一种改进。它由抛光体１、基座２、液体通孔３、管接头４、真空泵５、球头６、驱动杆７、供液泵８、管接头９、液体通孔１０、正压微孔１１、正压工作室１２、抛光工作面１３、负压工作室１４和负压微孔１...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械研究所授权不得商用。

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