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一种用于表面处理器具的分离装置，包括第一旋风分离单元和第二旋风分离单元，第一旋风分离单元包括至少一个第一旋风器，所述第二旋风分离单元位于第一旋风分离单元的流体下游且包括被绕第一轴线(Y)流体并联地布置的多个第二旋风器，其中，多个第二旋风器被...
该专利属于戴森技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过戴森技术有限公司授权不得商用。

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