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一种保护化学机械抛光（ＣＭＰ）设备构件不受侵蚀的结构包括形成于压磨板（３２）表面上的难熔金属氧化物涂层（３３）。在优选实施例中，难熔金属氧化物涂层（３３）为等离子火焰喷涂氧化铬层。在另一实施例中，至少在难熔金属氧化物涂层（３３）的孔（４１）...
该专利属于摩托罗拉公司所有，仅供学习研究参考，未经过摩托罗拉公司授权不得商用。

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