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本发明提供使用了溅射钯时的成膜速度(溅射速率)被提高、理想的是能够防止飞溅的发生的Al基合金溅射钯。本发明的Al基合金溅射钯含有Ta。优选的是含有Al及Ta的Al-Ta系金属间化合物的平均粒子直径为0.005μm以上且1.0μm以下，且Al...
该专利属于株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研授权不得商用。

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