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垂直非均匀掺杂沟道的短栅隧穿场效应晶体管及制备方法技术
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文档序号:8802188
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一种垂直非均匀掺杂沟道的短栅隧穿场效应晶体管及制备方法。所述短栅隧穿场效应晶体管具有垂直沟道并且沟道区掺杂为缓变非均匀掺杂,沟道掺杂浓度沿垂直方向呈高斯分布并且靠近漏端处沟道掺杂浓度较高,靠近源端处沟道掺杂浓度较低;另外,在垂直沟道两侧具有...
该专利属于北京大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学授权不得商用。
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