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本发明公开了一种单晶硅片清洁方法，包括步骤：1)对硅片进行烘烧处理；2)将烘烧处理后的硅片进行超声波清洗；3)对硅片进行去损伤处理。在上述单晶硅片清洁方法中，首先对硅片进行烘烧处理，该步骤能够通过高温烘烧作用将单晶硅片表面上贴覆的贴纸或者有...
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