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本发明涉及通过曝光实现图案化所使用的分子玻璃正性光刻胶组合物以及用于形成光刻胶图案的方法。本发明公开的正性光刻胶组合物包括(A)官能团保护的六元含氮杂环衍生物，其含有酸敏感的官能团保护的酚基；(B)光致产酸剂(Photoacid?gener...
该专利属于中国科学院理化技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院理化技术研究所授权不得商用。

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