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本发明公开了一种蒸馏装置，其包括一底座、一设置于该底座上的蒸馏腔及一设置于该蒸馏腔顶端用于进排气的顶盖，该蒸馏装置还包括一用于加热该蒸馏腔的加热装置，该加热装置套设于该蒸馏腔外部，该蒸馏腔内固设有一坩埚组件，该蒸馏腔的底部与该底座贯通，且通...
该专利属于中国科学院上海应用物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海应用物理研究所授权不得商用。

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