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本发明公开了一种深沟槽刻蚀工艺针刺状缺陷的解决方法，该方法在现有的深沟槽硬掩膜干法刻蚀工艺的光刻胶灰化步骤以后，湿法去除晶圆上的残留聚合物步骤前，增加了干法圆滑刻蚀和湿法修复两个工艺步骤。本发明通过在硬掩膜刻蚀之后的清洗步骤中增加干法圆滑刻...
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