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本发明涉及镀膜设备，具体地说是一种磁控溅射系统，包括磁控室、基片转台、基片转台驱动电机、传动机构、磁控靶、机台架、真空抽气系统及电动提升机构，磁控室安装在机台架上、与位于机台架内的真空抽气系统相连，在磁控室内均布有多个安装在磁控室下法兰上的...
该专利属于中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司授权不得商用。

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