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本发明公开一种碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂，由如下质量百分比的组分构成：工业一级盐酸（>31%）10~60%、氢氟酸1~10%、工业一级硫酸（≧98%）1~13%、巴斯夫甲基磺酸1~8%、蚁酸1~10%、磷酸1~6%、除积碳专用...
该专利属于三达奥克化学股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三达奥克化学股份有限公司授权不得商用。

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