温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供了一种用于投射一个或多个合成光学图像的系统，其展示出对光学上劣化的外部效应的改进的抵抗性。本发明的系统用来使聚焦元件的焦距锁定在适当的位置。换句话说，并无与本发明的系统接触的其他透明材料或层会起到显著地改变由所述系统形成的合成图像的焦距...
该专利属于光学物理有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过光学物理有限责任公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。