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本发明涉及一种用于测量和/或控制眼科元件（1）的抛光处理的方法，该方法包括以下步骤:-在待抛光的所述元件的表面上制造至少两个空腔（2，3），第一空腔（2）的深度小于第二空腔（3）的深度；-执行抛光处理；-观察所述元件（1），以便核实所述第一...
该专利属于埃西勒国际通用光学公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃西勒国际通用光学公司授权不得商用。

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