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一种晶体管的制造方法,包括:提供衬底;在衬底上形成高K介质层;在高K介质层上形成具有第一功函数的帽层;在帽层上形成具有第二功函数的金属材料;通过热退火使所述金属材料向所述帽层扩散,形成功函数金属层;在功函数金属层上形成金属电极层。本发明通过...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种晶体管的制造方法,包括:提供衬底;在衬底上形成高K介质层;在高K介质层上形成具有第一功函数的帽层;在帽层上形成具有第二功函数的金属材料;通过热退火使所述金属材料向所述帽层扩散,形成功函数金属层;在功函数金属层上形成金属电极层。本发明通过...