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本发明涉及一种铜铟镓硒薄膜的硒化处理装置、方法及铜铟镓硒薄膜器件。所述装置包括石英管，所述石英管内部设有硒化单元，所述硒化单元包括通过隔热材料相连接的硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽，两凹槽上方设有防护罩，所述防护罩与两凹槽之间形成密闭空间。将固...
该专利属于中国科学院过程工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院过程工程研究所授权不得商用。

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