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本发明涉及用于在多个工件和一个工件上沉积无氢四面体非晶碳层的装置和方法，该装置包括至少下列部件：a）真空室，其可连接到一种惰性气体源和一真空泵，b）用于一个或多个基底（工件）的支撑装置，其被插入或可插入该真空室，c）至少一个具有相应的磁体排...
该专利属于豪泽尔涂层技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过豪泽尔涂层技术有限公司授权不得商用。

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